Varias
condiciones del método para remover químicamente capas "etching" influyen en
los ángulos formados por los paneles en estas nanocajas. En la columna izquierda
se muestra una imagen ampliada del material de bisagra de estaño.

La otra columna
muestra las cajas en diferentes magnificaciones.

Los paneles forman patrones con las letras "JHU"
con anchos de línea de 15 nanómetros. Crédito: ACS/Nano Letters

Los químicos se
han hecho muy diestros al construir nanoestructuras bidimensionales (2-D), pero
el hacer estructuras en patrones tridimensionales (3-D) para la formulación de fármacos,
electrónica y otras aplicaciones ha probado ser un reto aún mayor. En
particular, nadie ha sido capaz de hacer estructuras tridimensionales en
superficies con patrones.

David Gracias y Jeong-Hyun Cho de la Universidad de Johns
Hopkins en la ciudad de Baltimore, EE.UU., han tenido que superar este
problema. Ellos inicialmente hicieron
arreglos de estructuras en patrones en forma de cruz sobre un "wafer" (rodaja
fina de material semiconductor) de silicio, entonces añadieron las bisagras de
estaño. Al colocarse en una cámara para
realizar el "etching" con plasma, las superficies planas se doblaron formando
cubos y despegándose del "wafer". Para lograr nanocubos con lados tan pequeños
como 100 nanómetros, los investigadores añadieron otro panel.

El trabajo está
descrito en la revista en internet científica Nano Letters, donde investigadores indican que esto
puede ser aplicado a otras formas poliédricas.