Variasncondiciones del método para remover químicamente capas "etching" influyen ennlos ángulos formados por los paneles en estas nanocajas. En la columna izquierdanse muestra una imagen ampliada del material de bisagra de estaño.
La otra columnanmuestra las cajas en diferentes magnificaciones.
Los paneles forman patrones con las letras "JHU"ncon anchos de línea de 15 nanómetros. Crédito: ACS/Nano Letters
Los químicos senhan hecho muy diestros al construir nanoestructuras bidimensionales (2-D), peronel hacer estructuras en patrones tridimensionales (3-D) para la formulación de fármacos,nelectrónica y otras aplicaciones ha probado ser un reto aún mayor. Ennparticular, nadie ha sido capaz de hacer estructuras tridimensionales ennsuperficies con patrones.
David Gracias y Jeong-Hyun Cho de la Universidad de JohnsnHopkins en la ciudad de Baltimore, EE.UU., han tenido que superar estenproblema. Ellos inicialmente hicieronnarreglos de estructuras en patrones en forma de cruz sobre un "wafer" (rodajanfina de material semiconductor) de silicio, entonces añadieron las bisagras denestaño. Al colocarse en una cámara paranrealizar el "etching" con plasma, las superficies planas se doblaron formandoncubos y despegándose del "wafer". Para lograr nanocubos con lados tan pequeñosncomo 100 nanómetros, los investigadores añadieron otro panel.
El trabajo estándescrito en la revista en inte et científica Nano Letters, donde investigadores indican que estonpuede ser aplicado a otras formas poliédricas. n